В случае позитивного фоторезиста свет попадает на его участки не закрытые фотошаблоном, потом его проявляют в соответствующем проявителе, и по получившейся маске проводят необходимый процесс. Можно проводить не только процессы травления, но и осаждения металлических плёнок, диэлектриков, осуществлять ионную имплантацию и прочее.

Так вот то, насколько маленькую щель мы сможем сделать таким образом, т.е минимальный размер элемента и есть определение тех процесса. И тут начинается самое интересное: свет то оказывается умеет обходить препятствия! Ну вот тут то люди и охуели, и обозвали это явление - дифракцией. Оказалось, что дифракция уменьшается с уменьшением длины волны, и начали использовать не видимый свет а ультрафиолетовый, т.к длина волны у него меньше. Долго долго ебались и получили наконец длину волны в 193 нм при помощи аргонофторидного лазера. Это Но блять, всё равно широко слишком получается, хотим меньше! Тогда в 90х придумали Экстремальный УФ, либо же EUV. Принципы писать не буду, всё равно сам не понимаю. И это считается передовой фотолитографией на сегодняшний день. Первый степпер (либо как любят говорить в СНГ: литограф) если я правильно помню запустили 20 лет назад. Эта технология позволяет работать с тех процессом в 7 нм, мб даже меньше.

Но это мы что-то разговорились о слишком хорошем. Текущее положение дел такое, что в СНГ нет производителя оборудования который обеспечит минимальный ВОСПРОИЗВОДИМЫЙ размер в 7 нм. И в 20 нм нету. И в 50 ем нету. И не поверите! 90 нм тоже. И 180 тоже... И 200 тоже... Ну вы меня поняли. Текущий максимум развития литографического оборудования в СНГ это около 500 нм. Т.е 0.5 мкм. И то это в идеале.

Лично я работал на относительно большой номенклатуре оборудования литографического, в том числе установки для электронно-лучевой литографии, но если говорить про фотолитографию то это:
ЭМ5026
ЭМ5026АМ-1
ЭМ567
ЭМ 584А
Последняя является установкой проекционной фотолитографии, и к теме особого отношения не имеет. Рассматривать косяки и нюансы буду на примере установки ЭМ5026АМ-1. Выглядит она кстати так:

Что же происходит с пластиной? По хорошему слева и справа должны стоять каретки с пластинами. Пластина из каретки перемещается манипулятором на предметный столик, на котором всё веселье и происходит. Чтобы пластина не съебалась со столика он имеет вакуумный прижим снизу, что является хоть и базой и отличным технологическим решением но не ползволяет при необходимости совмещать куски неправильной формы. Прижим может быть либо по всей площади пластины, либо только по центру.

Если ну уже совсем интересны нюансы, я конечно сделаю более подробный пост, т.е 2ю часть этого высера, но что же происходит с пластиной дальше? Дальше к ней подъезжает калибратор и пластина выравнивается относительно шаблонодержателя. Непонятно? Ладно, над пластиной кладётся стекляная плита и пластина вжимается в эту плиту. Если вжало и не разъебало значит всё хорошо. После чего плита съёбываетсяв сторону а пластина обратно вниз.
Кладут фотошаблон и начинается процесс совмещения, т.е выравнивание пластины относительно шаблона, чтобы элементы легли куда надо. Делается на этой установке это при помощи 3х лимбов. У каждого из них есть вариант грубого и точного вращения. Почему 3? Да потому что Х, У координаты и угол. После совмещения пластина снова прижимается, но уже к фотошаблону (всё это время между пластиной и шаблоном был зазор в несколько мкм. , выезжает лампа и засвечивает участки фоторезиста. Ну а дальше проявление, задубливание фоторезиста, контроль размера и тд.

Вот так вот. Какой размер мы получаем на этой установке? 1 мкм. Почему так много? А нам больше и не надо. Можно ли меньше? Можно, но нужно менять лампу, а никто этого в здравом уме делать не будет, да и фоторезисты нужны другие, а там ценники побольше будут.

Компания «Микрон», крупнейший российский производитель микроэлектроники, успешно завершила тестирование первого отечественного высокочувствительного фоторезиста для технологических процессов 90 нм. Это значительный шаг в развитии российской микроэлектроники и обеспечении технологического суверенитета страны.

В производственных процессах «Микрона» используются 43 сверхчистых химических материала и 39 специальных электронных газов и смесей. Компания активно работает над заменой всех импортных компонентов отечественными аналогами. Важно, что работы по импортозамещению ведутся в тесном сотрудничестве с научными институтами, что позволяет быстро внедрять результаты исследований в производство", — отметила Гульнара Хасьянова, генеральный директор АО «Микрон». Она также подчеркнула, что создание отечественного фоторезиста для 90 нм является важным этапом в развитии микроэлектроники и пригласила к сотрудничеству всех заинтересованных производителей.

В программе «Микрона» по импортозамещению участвуют более 16 российских производителей и научных институтов. Новый фоторезист производится на предприятии в Приволжском федеральном округе, который является крупнейшим центром химической промышленности в России, обеспечивающим более 40% общего объема производства химических материалов в стране.

Фоторезист — это светочувствительный полимерный материал, используемый в фотолитографии, ключевом процессе производства интегральных микросхем. Он позволяет создавать на поверхности обрабатываемого материала «окна» для доступа травящих веществ. Высокое качество и соответствие материала техническим требованиям обеспечивают точное формирование элементов на кремниевых пластинах.

Развитие отечественной электронной компонентной базы (ЭКБ) является основой технологической независимости и безопасности России. Микроэлектроника относится к числу критических и сквозных технологий, и развитие устройств на основе отечественной ЭКБ является одним из ключевых направлений стратегии развития радиоэлектронной промышленности. Согласно Концепции технологического развития, к 2030 году доля отечественной продукции, включая чипы, высокоточные станки, робототехнику, фармацевтику, медицинское оборудование, телекоммуникационную технику, программное обеспечение и авиакосмическую технику, должна составлять не менее 75% от общего объема потребления.

20-21 февраля 2025 года «Микрон» представил свои достижения в области импортозамещения высокочистых химических материалов и электронных газов на III Форуме будущих технологий «Новые материалы и химия», который проходил в Москве.

Группа компаний «Микрон» — единственное в России серийное производство микроэлектроники с топологией до 90 нм. Компания входит в группу «Элемент» (ELMT) и является резидентом ОЭЗ «Технополис Москва». «Микрон» производит более 800 типономиналов продукции, включая интегральные схемы для автоэлектроники, интернета вещей, жестких условий эксплуатации, защищенных носителей данных, идентификационных, платежных и транспортных документов, а также микросхемы управления питанием и RFID-маркировки для различных отраслей цифровой экономики. Продукция компании включена в реестр отечественной промышленной продукции.

ПАО «Элемент» — один из крупнейших разработчиков и производителей электроники в России, лидер в области микроэлектроники. В состав группы входят более 30 компаний, занимающихся производством интегральных микросхем, полупроводниковых приборов, силовой электроники, модулей, корпусов для микросхем и радиоэлектронной аппаратуры.

Я понимаю, всепропальщики обязательно напишут - фу, 90нм это отсталое производство. Но вернемся к тому что я сказал в начале поста:

...совершенно невероятно чтобы одна страна могла сегодня обладать всей цепочкой микроэлектронного производства, от производства оборудования до готовой микросхемы

Тем более, абсолютно невероятно, что страна (любая вообще) могла бы сразу освоить 7-3 нм, это невозможно в принципе никак вообще. Никто в мире на это не способен. Поэтому принято очень верное решение - 90нм позволяют производить 80% всех необходимых в экономике микросхем, а для космического или военного применения эта технология с избытком закрывает 100% любых хотелок. Поэтому логично развивать именно это направление и для начала локализовать его, постепенно от химии и газов, до оборудования.

Что успешно и делается.

Кстати, подписаться на сообщество «Сделано у нас» на Пикабу можно тут, а телеграм проекта здесь